[实用新型]一种半导体化学气相沉淀装置金属面板测孔治具有效

专利信息
申请号: 201920540836.9 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN209470686U 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 陈智慧;朱光宇;张正伟;李泓波;贺贤汉 申请(专利权)人: 富乐德科技发展(大连)有限公司
主分类号: G01B21/14 分类号: G01B21/14
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 盖小静
地址: 116600 辽宁省大连市保税区*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种半导体化学气相沉淀装置金属面板测孔治具,属于气相沉淀装置测孔技术领域,包括治具本体,所述治具本体为一具有厚度的矩形板结构,所述治具本体上一侧设有对称设置的找正孔,所述治具本体中部开设有定位槽,所述定位槽为贯穿于治具本体的圆形通孔;所述定位槽的侧壁连接有定位环,所述定位环为一具有厚度和高度的圆环状结构,所述定位环上端面为阶梯状的台阶卡槽;所述治具本体的一角处连接有定位块,治具本体上定位块所在位置开设有底部定位孔。本治具节省测量时间,测孔位置固定,测量结果准确且有对比性。
搜索关键词: 治具本体 沉淀装置 定位槽 定位环 测孔 治具 半导体化学 金属面板 本实用新型 矩形板结构 圆环状结构 侧壁连接 测孔位置 对称设置 上定位块 台阶卡槽 圆形通孔 定位孔 定位块 对比性 阶梯状 上端面 找正孔 测量 贯穿
【主权项】:
1.一种半导体化学气相沉淀装置金属面板测孔治具,其特征在于,包括治具本体(1),所述治具本体(1)为一具有厚度的矩形板结构,所述治具本体(1)上一侧设有对称设置的找正孔(2),所述治具本体(1)中部开设有定位槽(3),所述定位槽(3)为贯穿于治具本体(1)的圆形通孔;所述定位槽(3)的侧壁连接有定位环(4),所述定位环(4)为一具有厚度和高度的圆环状结构,所述定位环(4)上端面为阶梯状的台阶卡槽(5);所述治具本体(1)的一角处连接有定位块,治具本体(1)上定位块所在位置开设有底部定位孔(6)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富乐德科技发展(大连)有限公司,未经富乐德科技发展(大连)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920540836.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top