[实用新型]一种二氧化硅释放工艺设备

摘要

本实用新型涉及半导体加技术领域，且公开了一种二氧化硅释放工艺设备，包括罐体，所述罐体的顶部开设有进料口，所述罐体的顶部且位于进料口的左右两侧均开设有排气口，所述罐体的内侧壁固定安装有挡板。该二氧化硅释放工艺设备，向罐体内注入原料，原料掉落到第一托板上，打开控制阀，向罐体内注入气体与原料进行反应，关闭控制阀，罐体内的废气通过排气口排出罐体，再启动电气伸缩杆向下移动，带动第一垫板向下移动，第一托板上的反应过后的原料通过第一通孔掉落到第二托板上，再次启动电气伸缩杆上移，将第一垫板抵住第一通孔，再打开控制阀，由第二进气管向罐体内注入气体进行反应通过不同气体分隔分阶段反应，达到了便于操作的目的。

主权项

1.一种二氧化硅释放工艺设备，包括罐体（1），其特征在于：所述罐体（1）的顶部开设有进料口（2），所述罐体（1）的顶部且位于进料口（2）的左右两侧均开设有排气口（3），所述罐体（1）的内侧壁固定安装有挡板（4），所述罐体（1）的内部固定安装有第一托板（5），所述第一托板（5）的内部开设有第一通孔（6），所述罐体（1）的内部且位于第一托板（5）的下方固定安装有第二托板（12），所述第二托板（12）的内部开设有第二通孔（13），所述罐体（1）的底部固定安装有一端延伸至第一通孔（6）和第二通孔（13）的电气伸缩杆（10），所述电气伸缩杆（10）的顶部固定安装有位于第一通孔（6）下方的第一垫板（9），所述第一垫板（9）的底部且位于电气伸缩杆（10）的外侧固定安装有顶杆（11），所述罐体（1）的左侧壁固定安装有第一进气管（7），所述第一进气管（7）的左侧固定安装有控制阀（8），所述电气伸缩杆（10）的外侧壁套接有位于第二通孔（13）下方的第二垫板（14），所述第二垫板（14）的底部且位于电气伸缩杆（10）的外侧固定安装有复位弹簧（15），所述第二垫板（14）的底部且位于复位弹簧（15）的外侧固定安装有波纹软管（16），所述波纹软管（16）远离第二垫板（14）的一端固定安装有与电气伸缩杆（10）套接的分流盘（17），所述罐体（1）的右侧固定安装有第二进气管（18），所述罐体（1）的底部开设有出料口（19），所述罐体（1）的底部固定安装有支撑架（20），所述支撑架（20）的内部固定安装有存料桶（21）。/n