[实用新型]一种二氧化硅释放工艺设备

权利要求书

1.一种二氧化硅释放工艺设备，包括罐体（1），其特征在于：所述罐体（1）的顶部开设有进料口（2），所述罐体（1）的顶部且位于进料口（2）的左右两侧均开设有排气口（3），所述罐体（1）的内侧壁固定安装有挡板（4），所述罐体（1）的内部固定安装有第一托板（5），所述第一托板（5）的内部开设有第一通孔（6），所述罐体（1）的内部且位于第一托板（5）的下方固定安装有第二托板（12），所述第二托板（12）的内部开设有第二通孔（13），所述罐体（1）的底部固定安装有一端延伸至第一通孔（6）和第二通孔（13）的电气伸缩杆（10），所述电气伸缩杆（10）的顶部固定安装有位于第一通孔（6）下方的第一垫板（9），所述第一垫板（9）的底部且位于电气伸缩杆（10）的外侧固定安装有顶杆（11），所述罐体（1）的左侧壁固定安装有第一进气管（7），所述第一进气管（7）的左侧固定安装有控制阀（8），所述电气伸缩杆（10）的外侧壁套接有位于第二通孔（13）下方的第二垫板（14），所述第二垫板（14）的底部且位于电气伸缩杆（10）的外侧固定安装有复位弹簧（15），所述第二垫板（14）的底部且位于复位弹簧（15）的外侧固定安装有波纹软管（16），所述波纹软管（16）远离第二垫板（14）的一端固定安装有与电气伸缩杆（10）套接的分流盘（17），所述罐体（1）的右侧固定安装有第二进气管（18），所述罐体（1）的底部开设有出料口（19），所述罐体（1）的底部固定安装有支撑架（20），所述支撑架（20）的内部固定安装有存料桶（21）。

2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅释放工艺设备，其特征在于：所述挡板（4）有三块，且挡板（4）呈阶梯式分布在罐体（1）的内侧壁上。

3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅释放工艺设备，其特征在于：所述控制阀（8）有两个，且另外一个控制阀（8）位于第二进气管（18）的右侧。

4.根据权利要求1所述的一种二氧化硅释放工艺设备，其特征在于：所述第一垫板（9）与第一通孔（6）相适配，所述第二垫板（14）与第二通孔（13）相适配，所述顶杆（11）与第二垫板（14）相适配。

5.根据权利要求1所述的一种二氧化硅释放工艺设备，其特征在于：所述第一托板（5）和第二托板（12）的顶部均呈弧面状，所述第二进气管（18）位于第一托板（5）与第二托板（12）之间。

6.根据权利要求1所述的一种二氧化硅释放工艺设备，其特征在于：所述罐体（1）的底部开设有凹槽，所述电气伸缩杆（10）位于凹槽内，所述存料桶（21）与出料口（19）相适配。