[实用新型]光阻烘烤设备

摘要

本公开提供一种光阻烘烤设备，涉及半导体技术领域。该光阻烘烤设备包括烘烤炉、加热盘、支撑针、第一驱动装置、测温装置、第二驱动装置和第一控制装置。加热盘设于烘烤炉内且具有加热面和背面；支撑针可滑动地穿过加热盘；第一驱动装置与支撑针的连接端连接；测温装置设于烘烤炉内，能检测基材的温度并输出检测温度；第二驱动装置设于烘烤炉内，能驱动测温装置朝向或背向加热盘移动；第一控制装置能响应控制信号，并根据检测温度控制第一驱动装置调节支撑端伸出加热面的距离，直至检测温度满足预设条件；以及控制第二驱动装置使测温装置与支撑针同步移动，以使测温装置与支撑端在垂直于加热面方向上的距离为大于基材厚度的预设间距。

主权项

1.一种光阻烘烤设备，其特征在于，包括：烘烤炉；加热盘，设于所述烘烤炉内，且具有相背的加热面和背面；支撑针，可滑动地穿过所述加热盘，且具有支撑端和连接端，所述支撑端用于支撑基材；第一驱动装置，与所述支撑针的连接端连接，用于驱动所述支撑针往复直线移动；测温装置，设于所述烘烤炉内，且与所述加热面相对设置，用于检测所述基材的温度，并输出检测温度；第二驱动装置，设于所述烘烤炉内，且与所述测温装置连接，用于驱动所述测温装置朝向或背向所述加热盘移动；第一控制装置，用于响应一控制信号，并根据所述检测温度控制所述第一驱动装置调节所述支撑端伸出所述加热面的距离，直至所述检测温度满足预设条件；以及，控制所述第二驱动装置使所述测温装置与所述支撑针同步移动，以使所述测温装置与所述支撑端在垂直于加热面方向上的距离为大于所述基材厚度的预设间距。