[实用新型]一种真空镀膜机的供电系统有效
申请号: | 201920380537.3 | 申请日: | 2019-03-23 |
公开(公告)号: | CN209798074U | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 董旺鹏 | 申请(专利权)人: | 厦门正顺兴钛金科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空镀膜机的技术领域,涉及一种真空镀膜机的供电系统,其包括设置在镀膜室上的供电件,以及与靶源连接的供电线,且所述供电线与所述供电件连接;还包括设置在镀膜室上的连接块,所述连接块上设置有调节机构,所述连接块上开设有第一滑槽;所述调节机构包括滑移连接在所述第一滑槽内的滑块,所述滑块上设置有推杆,所述推杆的横截面积呈L形;所述连接块上设置有与所述滑块连接的固定组件。本实用新型设置的调节机构能够使供电线在镀膜室的外侧壁上绷紧,减少人工操作,从而提高效率。三相可调交流电源电源电压可调,频率可调,从而改变等离子的形成远近,使镀层更均匀。 | ||
搜索关键词: | 镀膜室 供电线 滑块 推杆 本实用新型 真空镀膜机 供电件 滑槽 供电系统 可调交流电源 电源电压 固定组件 滑移连接 频率可调 人工操作 等离子 外侧壁 靶源 绷紧 镀层 可调 | ||
【主权项】:
1.一种真空镀膜机的供电系统,包括设置在镀膜室上的供电件(11),以及与靶源连接的供电线(12),且所述供电线(12)与所述供电件(11)连接;其特征在于,还包括设置在镀膜室上的连接块(2),所述连接块(2)上设置有调节机构(3),所述连接块(2)上开设有第一滑槽(21);所述调节机构(3)包括滑移连接在所述第一滑槽(21)内的滑块(31),所述滑块(31)上设置有推杆(32),所述推杆(32)的横截面积呈L形;所述连接块(2)上设置有与所述滑块(31)连接的固定组件(4)。/n
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