[实用新型]一种半导体材料研磨液生产用反应釜有效
申请号: | 201920239578.0 | 申请日: | 2019-02-26 |
公开(公告)号: | CN210279124U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 朱斌;石志成;齐维达;周少伟 | 申请(专利权)人: | 石家庄优士科电子科技有限公司 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;B01J19/00 |
代理公司: | 石家庄领皓专利代理有限公司 13130 | 代理人: | 任军培;李婷 |
地址: | 050000 河北省石家庄市高*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体制品附属装置的技术领域,特别是涉及一种半导体材料研磨液生产用反应釜;方便放出工作腔内的全部物料,给使用者带来便利;并且,其工作模式较为多样,从而提高其使用可靠性;包括机箱、挡板、减速机、电加热棒和驱动电机,机箱内设置有工作腔,减速机位于驱动电机的底部输出端,驱动电机的底部输出端设置有传动轴;还包括两组第一伺服电机、两组第二电机、两组带动杆和导流板,工作腔的前侧壁和后侧壁分别设置有两组收缩架,两组收缩架的底端分别设置有两组收缩槽,两组带动杆的侧壁上均设置有多组固定板;还包括水箱、连通软管、高压泵、喷洒器、液压装置、清洁电机和连接辊,高压泵安装在连通软管上。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体材料 研磨 生产 反应 | ||
【主权项】:
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