[实用新型]一种半导体材料研磨液生产用反应釜有效

专利信息
申请号: 201920239578.0 申请日: 2019-02-26
公开(公告)号: CN210279124U 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 朱斌;石志成;齐维达;周少伟 申请(专利权)人: 石家庄优士科电子科技有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B01J19/00
代理公司: 石家庄领皓专利代理有限公司 13130 代理人: 任军培;李婷
地址: 050000 河北省石家庄市高*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及半导体制品附属装置的技术领域,特别是涉及一种半导体材料研磨液生产用反应釜;方便放出工作腔内的全部物料,给使用者带来便利;并且,其工作模式较为多样,从而提高其使用可靠性;包括机箱、挡板、减速机、电加热棒和驱动电机,机箱内设置有工作腔,减速机位于驱动电机的底部输出端,驱动电机的底部输出端设置有传动轴;还包括两组第一伺服电机、两组第二电机、两组带动杆和导流板,工作腔的前侧壁和后侧壁分别设置有两组收缩架,两组收缩架的底端分别设置有两组收缩槽,两组带动杆的侧壁上均设置有多组固定板;还包括水箱、连通软管、高压泵、喷洒器、液压装置、清洁电机和连接辊,高压泵安装在连通软管上。
搜索关键词: 一种 半导体材料 研磨 生产 反应
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石家庄优士科电子科技有限公司,未经石家庄优士科电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920239578.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top