[发明专利]一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法有效
申请号: | 201911387926.X | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN111025841B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 张美丽 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;马盼 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,包括如下步骤:S01:提供原始版图,S02:在通孔中筛选出与该通孔所在金属线边界距离小于设定阈值的通孔边,且通孔边距离相邻不同电位的同层金属线的距离小于1.2D;S03:将通孔边对应的通孔朝着远离相邻不同电位的同层金属线的方向移动;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离小于最小设计规则值,则将两个通孔合并处理;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离大于等于最小设计规则值,则保留两个通孔;S04:对移动和合并之后的通孔做设计规则检测。本发明提供的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,通过对通孔进行移动,增大金属线光学邻近修正后退工艺窗口。 | ||
搜索关键词: | 一种 优化 金属线 光学 邻近 修正 工艺 窗口 方法 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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