[发明专利]一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法有效

专利信息
申请号: 201911387926.X 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111025841B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 张美丽 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;马盼
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,包括如下步骤:S01:提供原始版图,S02:在通孔中筛选出与该通孔所在金属线边界距离小于设定阈值的通孔边,且通孔边距离相邻不同电位的同层金属线的距离小于1.2D;S03:将通孔边对应的通孔朝着远离相邻不同电位的同层金属线的方向移动;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离小于最小设计规则值,则将两个通孔合并处理;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离大于等于最小设计规则值,则保留两个通孔;S04:对移动和合并之后的通孔做设计规则检测。本发明提供的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,通过对通孔进行移动,增大金属线光学邻近修正后退工艺窗口。
搜索关键词: 一种 优化 金属线 光学 邻近 修正 工艺 窗口 方法
【主权项】:
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