[发明专利]一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法有效
申请号: | 201911387926.X | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN111025841B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 张美丽 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;马盼 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 优化 金属线 光学 邻近 修正 工艺 窗口 方法 | ||
1.一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S01:提供原始版图,所述原始版图包括金属线以及连接不同层金属线的通孔;
S02:在通孔中筛选出与该通孔所在金属线边界距离小于设定阈值的通孔边,且所述通孔边距离相邻不同电位的同层金属线的距离小于1.2D;其中,D表示最小设计规则值;
S03:将所述通孔边对应的通孔朝着远离所述相邻不同电位的同层金属线的方向移动;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离小于最小设计规则值,则将两个通孔合并处理;若移动之后的通孔与相邻的同电位通孔之间的距离大于等于最小设计规则值,则保留两个通孔;
S04:对移动和合并之后的通孔做设计规则检测,若检测通过,则形成新的原始版图;若检测未通过,则撤销对通孔的移动和合并;
步骤S05:对原始版图进行光学邻近修正,且在光学邻近修正过程中,所述通孔边所在的金属线朝着对应通孔移动的方向进行后退,确保不同电位的同层金属线不会发生短路。
2.根据权利要求1所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述步骤S02中筛选出与金属线边界重合的通孔边。
3.根据权利要求1所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述通孔边的对边与其所连接的金属线的另一边界之间的距离大于S,另一边界指的是位于移动方向一侧的边界,S大于0。
4.根据权利要求3所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述步骤S03中通孔的移动距离根据通孔边的对边与其所连接的金属线的另一边界之间的距离分为M个等级,M为大于0的正整数。
5.根据权利要求3所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述步骤S03中所述通孔的移动距离为0.1S-S中的任意数值。
6.根据权利要求1所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述通孔为正方形。
7.根据权利要求6所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述步骤S03中合并之后的通孔为长方形,位于合并之前两个通孔的中心位置。
8.根据权利要求7所述的一种优化金属线光学邻近修正工艺窗口的方法,其特征在于,所述步骤S03中去除接触到合并之后通孔的原始通孔。
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