[发明专利]衬底对准系统和相关方法在审
| 申请号： | 201911387239.8 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111489996A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | M·J·塞登;野间崇 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;H01L21/78;H01L23/544 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 秦晨 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明题为“衬底对准系统和相关方法”。一种在晶圆上制作多个对准标记的方法的实施方式可包括：提供一种在晶圆的第一侧上包括对准特征结构的晶圆。该方法可包括使用聚焦在晶圆的第一侧上的相机对准晶圆。该晶圆可使用管芯的第一侧上的对准特征结构进行对准。晶圆还可包括通过激光切割、锯切或划片在晶圆的第二侧上制作多个对准标记。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 对准 系统 相关 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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