[发明专利]套刻测试结构及制备方法、套刻测试方法有效
| 申请号： | 201911377090.5 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN113050392B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 樊航;朱福生;秦祥 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F1/42;G03F1/44;H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 冯永贞 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种套刻测试结构及制备方法、套刻测试方法。所述测试结构包括：基底层；第一层套刻标记和第二层套刻标记，所述第一层套刻标记和所述第二层套刻标记呈中空的环形框架，在水平面的投影上所述第二层套刻标记设置于所述第一层套刻标记中空的环形框架内，以用于检测套刻是否对准；其中，所述第一层套刻标记形成于所述基底层上的第一膜层中；所述第二层套刻标记形成于所述第一膜层上。本发明解决了由于总堆叠厚度超出机台同时聚焦能力范围而导致自动聚焦失败的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
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