[发明专利]一种化学机械抛光研磨剂的制备方法及化学机械抛光方法在审
| 申请号： | 201911338227.6 | 申请日： | 2019-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN111087930A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 杨鹏;周文斌;张磊 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张雪娇 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种化学机械抛光研磨剂的制备方法及化学机械抛光方法，其中，化学机械抛光研磨剂的制备方法在获取了待处理研磨剂和预设有机硅烷后，利用预设有机硅烷对分散在有机溶剂中的待处理研磨剂进行表面改性处理，并对待分离液体进行处理，以获得表面改性的化学机械抛光研磨剂，表面改性的化学机械抛光研磨剂可以被有机化合物均匀包裹，在避免表面改性的化学机械抛光研磨剂在研磨液体中团聚，避免在化学机械抛光处理过程中团聚的研磨剂对半导体元件表面造成损伤情况的基础上，减少了有机化合物的用量。另外，表面改性的化学机械抛光研磨剂与有机化合物的结合更加紧密，有利于提升在化学机械抛光的研磨过程中的缓冲效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 研磨剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
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