[发明专利]一种防真空泄漏设备有效

专利信息
申请号: 201911277095.0 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111081522B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 王帆 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;G02F1/13
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请提供一种防真空泄漏设备,其包括:反应腔;配管,连通至所述反应腔;销子,可活动式地插入至所述配管地一端;以及密封结构,设于所述销子与所述配管的连接处。所述过防真空泄漏设备还包括弹性部件,连接所述配管与所述销子。当所述反应腔内部压力小于或等于大气压时,所述配管的管体内侧壁与所述销子的销杆外侧壁相切;当所述反应腔内部压力大于大气压时,所述配管的管体内侧壁与所述销子的销杆外侧壁存在间隙。
搜索关键词: 一种 真空 泄漏 设备
【主权项】:
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