[发明专利]多应力强化试验剖面编制方法、装置及计算机存储介质在审

专利信息
申请号: 201911263808.8 申请日: 2020-03-06
公开(公告)号: CN111062183A 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 吴建国;于荣刚;李志强;李尧;冯国林;朱仪凡;贾洲侠;刘宝瑞;李艳芬;程昊;陈志军 申请(专利权)人: 北京强度环境研究所;中国运载火箭技术研究院
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398;G06F119/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 多应力强化试验剖面编制方法、装置及计算机存储介质,包括:确定SiP器件的敏感应力类型;确定所述敏感应力类型对应的强化试验应力极限值;根据所述强化试验应力极限值确定强化试验的应力量级;所述应力量级为小于所述应力极限值的应力值;根据所述应力量级、预先确定的应力组合以及应力作用时序,编制多应力强化试验剖面。采用本申请中的方案,故障激发效率快,在较短时间内快速激发出产品设计和制造的潜在缺陷,并确定其耐受应力的极限值,以此为依据进行改进设计,从而提高弹用复杂结构SiP器件的固有可靠性。
搜索关键词: 应力 强化 试验 剖面 编制 方法 装置 计算机 存储 介质
【主权项】:
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