[发明专利]真空排气系统及其控制方法在审

专利信息
申请号: 201911242271.7 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN111336093A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 徐笵植;徐康元 申请(专利权)人: 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司
主分类号: F04B37/14 分类号: F04B37/14;F04B49/06;F04B49/22;F04B51/00;H01L21/67
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 彭辉剑;龚慧惠
地址: 266000 山东省青岛市黄岛区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种真空排气系统,用于使半导体加工设备的腔室内维持真空状态,半导体加工设备包括至少一个腔室,真空排气系统包括至少一条排气管路及设于排气管路上的排气泵与开关阀,每条排气管路与一个腔室连通,真空排气系统还包括备用管路、控制机构、设于备用管路上的备用泵及备用开关阀,备用管路与腔室连通,控制机构与开关阀、备用开关阀分别通信连接,控制机构控制开关阀在排气泵的电流大于预设值时关闭开关阀并打开备用开关阀。本发明有利于防止系统烧坏且避免在所述排气泵不能或不适合工作时无法维持所述腔室的真空状态的情况,保证了加工的良率。本发明还提出一种真空排气系统控制方法。
搜索关键词: 真空 排气 系统 及其 控制 方法
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