[发明专利]用于监测抛光的设备和方法在审
| 申请号： | 201911233241.X | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN111267000A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 芮相宪;吴世允;千圣贤 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | B24B49/12 | 分类号： | B24B49/12;B24B29/02;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 张晓;张川绪 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种用于监测抛光的设备和方法，所述用于监测抛光的设备包括：基底传送单元，被构造为沿着第一方向传送包括至少一个无机层的基底；抛光单元，位于基底传送单元上；清洁单元和干燥单元，位于基底传送单元上；以及监测单元，位于基底传送单元上，监测单元包括被构造为测量从基底的多个不同位置中的相应位置反射的反射光的多个光学探头。抛光单元、清洁单元、干燥单元和监测单元沿着第一方向顺序设置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 监测 抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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