[发明专利]用于监测抛光的设备和方法

权利要求书

1.一种用于监测抛光的设备，所述设备包括：

基底传送单元，用于沿着第一方向传送包括至少一个无机层的基底；

抛光单元，位于所述基底传送单元上；

清洁单元和干燥单元，位于所述基底传送单元上；以及

监测单元，位于所述基底传送单元上，所述监测单元包括多个光学探头，所述多个光学探头被构造为测量从所述基底的多个不同位置中的相应位置反射的反射光，

其中，所述抛光单元、所述清洁单元、所述干燥单元和所述监测单元沿着所述第一方向顺序设置。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述多个光学探头沿着垂直于所述第一方向的第二方向彼此分隔开。

3.如权利要求1所述的设备，其中，所述基底包括沿着所述第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向布置的多个单元，并且

所述多个光学探头被布置为与所述基底的所述多个单元中的相应单元对应。

4.如权利要求1所述的设备，所述设备还包括厚度-光谱数据库，所述厚度-光谱数据库包括关于所述至少一个无机层的厚度和与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的参考光谱的数据。

5.如权利要求4所述的设备，其中，所述厚度-光谱数据库包括关于与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的抛光时间的数据。

6.如权利要求4所述的设备，所述设备还包括结合到所述多个光学探头的多通道光谱仪，并且所述多通道光谱仪被构造为根据由所述多个光学探头测量的所述反射光中的相应反射光来计算光谱。

7.如权利要求6所述的设备，所述设备还包括被构造为将多个计算出的光谱与所述参考光谱进行比较的控制器。

8.如权利要求7所述的设备，其中，所述控制器被构造为将由所述多通道光谱仪计算出的光谱的峰值点或谷值点处的波长与所述参考光谱的峰值点或谷值点处的波长中的相应波长进行比较。

9.如权利要求7所述的设备，其中，所述控制器被构造为将所述多个计算出的光谱彼此进行比较。

10.一种用于监测抛光的方法，所述方法包括以下步骤：

生成厚度-光谱数据库；

对包括至少一个无机层的基底进行抛光；

并发计算针对所述基底的多个不同位置中的各个位置的光谱；

将所计算出的光谱中的每个光谱与包括在所述厚度-光谱数据库中的参考光谱进行比较；

计算所述至少一个无机层的在所述基底的所述多个不同位置中的相应位置处的厚度；以及

确定所述至少一个无机层的在所述基底的所述多个不同位置中的所述相应位置处的所述厚度的适当性。

11.如权利要求10所述的方法，其中，当并发计算分别针对所述基底的所述多个不同位置的所述光谱时，所述基底的所述多个不同位置分别对应于包括在所述基底中的多个单元中的相应单元。

12.如权利要求10所述的方法，其中，确定所述至少一个无机层的在所述基底的所述多个不同位置处的所述厚度的适当性的所述步骤包括以下步骤：

将针对所述基底的所述多个不同位置中的所述各个位置计算出的厚度彼此进行比较；以及

确定所述至少一个无机层的平坦度。

13.如权利要求10所述的方法，其中，所述厚度-光谱数据库包括关于所述至少一个无机层的厚度和与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的参考光谱的数据。

14.如权利要求10所述的方法，其中，所述厚度-光谱数据库包括关于与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的抛光时间的数据。