[发明专利]一种物理气相沉积设备在审
| 申请号： | 201911210758.7 | 申请日： | 2019-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN110819959A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 陈卫军;刘岩军;林信南;刘美华 | 申请（专利权）人： | 深圳市晶相技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 王华英 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提出一种物理气相沉积设备，包括：生长腔体；至少一第一载台，设置在所述生长腔体内；多个第二载台，设置在所述第一载台上，所述多个第二载台的转速不同于所述第一载台的转速。本发明提出的物理气相沉积设备设计合理，能够提高镀膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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