[发明专利]一种超薄芯片的晶背制备方法在审

专利信息
申请号: 201911208788.4 申请日: 2019-11-30
公开(公告)号: CN111081623A 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 高峰;黄勇超;林廷伟 申请(专利权)人: 闳康技术检测(上海)有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/304
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200120 上海市浦东新区中国(上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及芯片分析技术领域,公开了一种超薄芯片的晶背制备方法,包括如下步骤:S1:使用热熔胶固定芯片的锡球面,其中热熔胶涂抹均匀;S2:裁剪板载体,其中板载体的最大截面面积大于芯片的最大截面面积;S3:使用热熔胶将芯片粘接在板载体上,其中,所述板载体的中间部位开设形状与芯片适配的卡接槽,芯片背面卡接在所述卡接槽内;S4:研磨去除表面的板载体,露出芯片背面;S5:化学法去除芯片背面的胶体;S6:拆下样品;研磨时,受到的力会被板载体均匀开,同时板载体还能增加研磨的阻力,在厚度变薄时其进度会更容易控制,提高研磨的均匀度与质量,使得芯片背面不会出现裂纹以及研磨更均匀。
搜索关键词: 一种 超薄 芯片 制备 方法
【主权项】:
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