[发明专利]等离子体处理装置及边缘环的更换方法在审
| 申请号： | 201911008329.1 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112701027A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 高龙哲 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 彭辉剑;龚慧惠 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种等离子体处理装置，包括：静电卡盘，用于支撑待处理基板；基座环，围绕所述静电卡盘设置；边缘环，位于所述基座环上并围绕所述待处理基板设置；升降结构，包括升降销及驱动件，所述升降销可活动地穿过所述基座环并对应所述边缘环，所述驱动件连接所述升降销以驱动所述升降销升降，从而带动所述边缘环升降；传感器，设置于所述升降销与所述驱动件之间，以在所述边缘环升起后测量所述边缘环的重量。本发明还提供一种应用上述等离子体处理装置的边缘环的更换方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 边缘 更换 方法 | ||
【主权项】：
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