[发明专利]一种控制曝光机曝光的方法及装置有效
| 申请号： | 201911000412.4 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN110673448B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王志冲;李付强;刘鹏;冯京;栾兴龙;袁广才;董学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄丽 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种控制曝光机曝光的方法及装置，该方法包括：接收待曝光图层的信息，所述待曝光图层包括相互间隔的显示区域和非显示区域，所述显示区域包括透光区域或发光区域中任一区域以及图形区域；确定曝光机上多个激光头的分布信息，并基于所述分布信息将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域；判断任意所述相邻两个初始曝光区域之间的分界线与所述显示区域是否交叠；若交叠，则调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布，得到调整后的曝光区域，以使得所述调整后的曝光区域的分界线位于所述非图形区域或所述非透光区域或发光区域的至少一个区域内。解决了现有技术中存在拼接姆拉现象的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种控制曝光机曝光的方法，其特征在于，包括：/n接收待曝光图层的信息，所述待曝光图层包括相互间隔的显示区域和非显示区域，所述显示区域包括透光区域或发光区域中任一区域以及图形区域；/n确定曝光机上多个激光头的分布信息，并基于所述分布信息将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域；/n判断任意所述相邻两个初始曝光区域之间的分界线与所述显示区域是否交叠；/n若交叠，则调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布，得到调整后的曝光区域，以使得所述调整后的曝光区域的分界线位于所述非显示区域。/n
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