[发明专利]一种控制曝光机曝光的方法及装置有效
申请号: | 201911000412.4 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN110673448B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 王志冲;李付强;刘鹏;冯京;栾兴龙;袁广才;董学 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄丽 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 控制 曝光 方法 装置 | ||
1.一种控制曝光机曝光的方法,其特征在于,包括:
接收待曝光图层的信息,所述待曝光图层包括相互间隔的显示区域和非显示区域,所述显示区域包括透光区域或发光区域中任一区域以及图形区域;
确定曝光机上多个激光头的分布信息,并基于所述分布信息将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域;
判断任意所述相邻两个初始曝光区域之间的分界线与所述显示区域是否交叠;
若交叠,则调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布,得到调整后的曝光区域,以使得所述调整后的曝光区域的分界线位于所述非显示区域。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述分布信息将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域,包括:
基于所述分布信息确定每个所述激光头对应的标定点;
确定所述每个激光头对应的标定点在所述待曝光图层上所对应的位置;
基于每个所述位置将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域,其中,每个初始曝光区域包括一个所述位置。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布,包括:
判断与所述分界线交叠的区域是否为所述显示区域中的图形区域;
若是所述图形区域,则判断在与所述分界线非平行的方向上所述图形区域是否连续;
若连续,则基于透光区域或发光区域调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布,以使得所述调整后的曝光区域的分界线与所述透光区域或所述发光区域之间不交叠。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,基于透光区域或发光区域调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布,包括:
确定所述透光区域或发光区域的位置,并基于所述透光区域或所述发光区域的位置调整所述相邻两个初始曝光区域的面积,以使得所述调整后的曝光区域的分界线与所述透光区域或所述发光区域之间不交叠。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于,若所述图形区域在与所述分界线非平行的方向上不连续,则确定与所述图形区域相邻的非图形区域,调整所述相邻两个初始曝光区域的区域面积,以使得所述调整后的曝光区域的分界线落在所述非图形区域内。
6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述初始曝光区域为矩形区域。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,调整所述相邻两个初始曝光区域的面积,包括:
调整所述相邻两个初始曝光区域的宽度;或
将所述相邻两个初始曝光区域的边界进行曲折化处理,以使得所述调整后的曝光区域的分界线沿着所述透光区域、所述发光区域或所述图形区域的分布走向。
8.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
确定调整后的所述初始曝光区域的区域分布信息,并基于所述区域分布信息生成控制指令;
基于所述控制指令进行曝光。
9.一种控制曝光机曝光的装置,其特征在于,包括:
接收单元,用于接收待曝光图层的信息,所述待曝光图层包括多个显示区域和相邻的所述显示区域之间的非显示区域,所述显示区域包括透光区域或发光区域中任一区域以及图形区域;
划分单元,用于确定曝光机上多个激光头的分布信息,并基于所述分布信息将所述待曝光图层划分为与所述多个激光头一一对应的多个初始曝光区域;
判断单元,用于判断任意所述相邻两个初始曝光区域之间的分界线与所述显示区域是否交叠;
调整单元,用于若所述分界线与所述显示 区域交叠,则调整所述相邻两个初始曝光区域的区域分布,得到调整后的曝光区域,以使得所述调整后的曝光区域的分界线位于所述非显示区域。
10.一种电子设备,其特征在于,包括:
存储器,用于存储至少一个处理器所执行的指令;
处理器,用于加载并执行存储器中存储的指令,以实现如权利要求1-8任一项所述的方法。
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