[发明专利]基板处理设备、基板支撑单元和基板处理方法

摘要

一种用于处理基板的设备，包括：壳体，在该壳体中具有处理空间；支撑单元，其在处理空间中支撑基板；处理气体供应单元，其将处理气体供应到处理空间中；以及等离子体源，其从处理气体产生等离子体。支撑单元包括：支撑构件，在其上放置基板；加热构件，其加热被支撑在支撑构件上的基板；以及传热气体供应构件，其将传热气体供应到被支撑在支撑构件上的基板的背面。加热构件包括多个加热器，并且当俯视时，多个加热器加热被放置在支撑构件上的基板上的不同区域。支撑构件包括突起，该突起将支撑构件和被放置在支撑构件上的基板的背面之间的空间划分成多个气体区域，并且当俯视时，由加热构件加热的基板上的加热区域中的至少一个被划分为多个区域。