[发明专利]一种二次元坐标系旋转补偿测量方法及装置有效
| 申请号: | 201910937645.0 | 申请日: | 2019-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN110690135B | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
| 发明(设计)人: | 龚成文;温永阔;胡靖 | 申请(专利权)人: | 武汉东飞凌科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙) 42212 | 代理人: | 胡清堂 |
| 地址: | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本发明涉及晶体管式封装技术领域,尤其涉及一种二次元坐标系旋转补偿测量方法;包括:建立管座基础坐标系;以夹具的X轴边线和Y轴边线画线,并以X轴边线和Y轴边线的焦点为原点;画出所述管座外圆和所述管座两个绝缘子圆;将两个绝缘子圆心连接起来构造拟合线;将所述管座基础坐标系圆心平移至所述管座圆心,将管座基础坐标系按照拟合线的角度进行旋转并保存旋转补偿后的坐标系;画出管座芯片光敏区域,根据坐标算法,得到光敏区域相对于旋转补偿后的坐标系坐标位置。根据光敏区域相对于旋转补偿后的坐标系坐标位置对管座固晶位置进行调节。本发明实施例运用坐标系旋转补偿,最大程度保证TO产品芯片固晶的准确性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 二次元 坐标系 旋转 补偿 测量方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种二次元坐标系旋转补偿测量方法,其特征在于,包括以下步骤:/nS1,建立管座基础坐标系;具体包括,以夹具的X轴边线和Y轴边线画线,并以所述X轴边线和Y轴边线的焦点为原点;/nS2,通过影像测量画出所述管座外圆和所述管座两个绝缘子圆;具体包括,将所述两个绝缘子圆心连接起来构造拟合线;/nS3,将所述管座基础坐标系圆心平移至所述管座圆心,将所述管座基础坐标系按照拟合线的角度进行旋转并保存旋转补偿后的坐标系;/nS4,再次通过影像测量画出所述管座芯片光敏区域,根据坐标算法,得到所述光敏区域相对于旋转补偿后的坐标系坐标位置。/nS5,根据所述光敏区域相对于旋转补偿后的坐标系坐标位置对所述管座固晶位置进行调节。/n
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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