[发明专利]微影模拟方法在审
| 申请号： | 201910927935.7 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110967942A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 田福安;黄旭霆;刘如淦;罗世翔 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 在以微影模拟最佳化微影模型的方法中，根据给定布局形成遮罩，使用遮罩列印晶圆，量测在列印晶圆上形成的图案，使用晶圆边缘偏压表及给定遮罩布局来模拟晶圆图案，获得模拟晶圆图案与量测图案之间的差异，并且根据差异调整晶圆边缘偏压表。 | ||
| 搜索关键词： | 模拟 方法 | ||
【主权项】：
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