[发明专利]微影模拟方法在审
| 申请号： | 201910927935.7 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110967942A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 田福安;黄旭霆;刘如淦;罗世翔 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模拟 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种以微影模拟最佳化一微影模型的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
根据一给定布局形成一遮罩；
使用该遮罩列印一晶圆；
量测形成在列印的该晶圆上的一图案；
使用一晶圆边缘偏压表及该给定布局来模拟一晶圆图案；
获得模拟的该晶圆图案与量测的该图案之间的一差异；及
根据该差异调整该晶圆边缘偏压表。
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