[发明专利]半导体结构、器件和生成IC布局图的方法有效

专利信息
申请号: 201910921894.0 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110970434B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 彭士玮;曾健庭;林威呈 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L29/423;H01L27/02;H01L21/8238
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 半导体结构包括第一导电段、第二导电段、第三导电段、第四导电段和第一栅极。第一导电段和第二导电段位于第一导电层中并且被配置为第一类型的第一晶体管的第一端子和第二端子。第三导电段和第四导电段位于第二导电层中,该第二导电层堆叠在第一导电层上方并且被配置为第二类型的第二晶体管的第一端子和第二端子。第一栅极在第一方向上布置在第一导电段和第三导电段与第二导电段和第四导电段之间。该栅极被配置为第一晶体管的控制端子和第二晶体管的控制端子,第一导电段沿第一方向与第三导电段偏移,并且第二导电段沿第一方向与第四导电段偏移。本发明的实施例还涉及半导体器件和生成IC布局图的方法。
搜索关键词: 半导体 结构 器件 生成 ic 布局 方法
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