[发明专利]处理基板的边缘光刻胶去除系统和方法在审
申请号: | 201910912190.7 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN110941152A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 鲁多维奇·拉塔德;赖纳·泰格斯 | 申请(专利权)人: | 苏斯微技术光刻有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 王小衡;王天鹏 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述了一种用于处理基板(12)的边缘光刻胶去除系统(10),其包括具有主体(22)和从主体(22)突出的两个臂(24)的边缘光刻胶去除头(20)。臂(24)彼此隔开,从而在它们之间限定了用于容纳待处理的基板(12)的接收空间(26)。突出臂(24)各自具有彼此面对的功能表面(36),并且其中功能表面(36)各自包括至少一个流体出口(38)。此外,描述了一种处理基板(12)的方法。 | ||
搜索关键词: | 处理 边缘 光刻 去除 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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