[发明专利]一种双酯酸保护结构单体及其制备方法在审
| 申请号： | 201910879514.1 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110590554A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 许东升;马潇;周浩杰;顾大公;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C69/708 | 分类号： | C07C69/708;C07C67/08;C07C67/54;C07C29/38;C07C35/06;C07C69/54;G03F7/027 |
| 代理公司： | 31333 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 李萍 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市北仑*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及到光学材料领域，具体涉及到一种双酯酸保护结构单体及其制备方法。一种双酯酸保护结构单体，用作集成电路制作中所需光刻胶的原材料，因其具有双酯长侧链能够使光刻胶具有较好的成膜性能，又由于其悬挂在外的小体积、高酸敏基团能够提高光刻工艺中去保护反应效率，因此提高光刻产品的质量，此外通过本发明提供的工艺方法制得的双酯酸保护结构单体，具有较高的产率和纯度，进一步保证了光刻胶的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 双酯 保护结构 光刻胶 集成电路制作 成膜性能 反应效率 光刻工艺 光学材料 长侧链 去保护 产率 高酸 光刻 制备 悬挂 保证 | ||
【主权项】：
1.一种双酯酸保护结构单体，其特征在于，所述单体的化学结构通式如式Ⅰ所示：/n
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