[发明专利]一种双酯酸保护结构单体及其制备方法

权利要求书

1.一种双酯酸保护结构单体，其特征在于，所述单体的化学结构通式如式Ⅰ所示：

所述式Ⅰ中R₄为环状结构，其环数小于等于5。

2.根据权利要求1所述的双酯酸保护结构单体，其特征在于，所述式I中R₁为C1～C4烷基，R₂为C1～C4烷基，R₃为C1～C6烷基。

3.一种权利要求1或2所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：将卤代烷、环内酮、反应溶剂混合得到预备液I；在保护气下，取锂粒加入至反应溶剂中，得到预备液Ⅱ；

S2：将S1中所述预备液I滴加至预备液Ⅱ中，反应温度为30～60℃，得到反应液I；

S3：将S2中所述反应液I倒入酸中，经搅拌、分离、蒸馏得到含烷基的环内醇中间体；

S4：将丙烯酸类单体、乳酸类单体加入反应溶剂中，反应后经蒸馏得到丙烯酸乳酸类酯；

S5：在保护气下，将S3中所述含烷基的环内醇中间体与S4中所述丙烯酸乳酸类酯混合，加入反应溶剂中，得到反应液Ⅱ；

S6：S5中所述反应液Ⅱ经洗涤、分离、蒸馏，得到所述双酯酸保护结构单体。

4.根据权利要求3所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S1中所述环内酮、锂粒、卤代烷、反应溶剂的摩尔比为1：(2～3)：(1.5～3)：(6～10)。

5.根据权利要求4所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S1中所述反应溶剂选自四氢呋喃、甲苯、乙醚、二氯甲烷、二氯乙烷中的一种或几种。

6.根据权利要求3所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S4和S5中所述反应溶剂中还包括催化剂和阻聚剂。

7.根据权利要求6所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S4中所述丙烯酸类单体、乳酸类单体、反应溶剂、催化剂、阻聚剂的摩尔比为1：(1～3)：(6～10)：(0.1～1)：(0.1～1)。

8.根据权利要求6所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S5中所述含烷基的环内醇中间体、丙烯酸乳酸类酯、反应溶剂、催化剂、阻聚剂的摩尔比为1：(1.2～3)：(6～10)：(0.1～1)：(0.1～1)。

9.根据权利要求8所述的双酯酸保护结构单体的制备方法，其特征在于，S5中所述催化剂为酸类催化剂。

10.一种权利要求1～9任一项所述的双酯酸保护结构单体的应用，其特征在于，所述双酯酸保护结构单体用作集成电路制作中所用光刻胶的原材料。