[发明专利]应用于台阶结构的掩模版及其形成方法在审
| 申请号： | 201910838289.7 | 申请日： | 2019-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN110597010A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 陈志刚 | 申请（专利权）人： | 中芯集成电路制造(绍兴)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 312000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种应用于台阶结构的掩模版及其形成方法。基于台阶结构中具有不同高度的台阶平面，将掩模版中相对应的图案层分别设置在不同的高度位置上，从而在利用该掩模版对具有台阶结构的半导体衬底执行光刻工艺时，即能够使各个台阶平面均对应在最佳的成像平面内，确保各个台阶平面均具有较好的光刻精度，有利于增加台阶结构的光刻工艺窗口。可见，利用本发明提供的掩模版，能够实现较小的工艺线宽在不同台阶平面下的一次成像的可能。 | ||
| 搜索关键词： | 台阶结构 台阶平面 掩模版 光刻工艺窗口 成像平面 高度位置 光刻工艺 一次成像 工艺线 图案层 衬底 光刻 半导体 应用 | ||
【主权项】：
1.一种应用于台阶结构的掩模版，其特征在于，包括基体以及形成在所述基体上的至少两层图案层，所述至少两层图案层分别位于不同的高度位置并且所述至少两层图案层的图案在一平面上的投影无重叠，所述平面垂直于高度方向，以及所述至少两层图案层中，各个图案层分别用于对所述台阶结构中的各个台阶平面进行掩模，并且各个图案层所对应的聚焦平面与各个台阶平面一一对应。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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