[发明专利]一种多孔NiS2纳米片的制备方法及NiS2材料在审
| 申请号： | 201910826239.7 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110538663A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 徐冬;孟瑞红;高文君;孙振新;郭桦;陈保卫;高腾飞;杨阳 | 申请（专利权）人： | 国电新能源技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | B01J27/043 | 分类号： | B01J27/043;B01J35/10;C25B1/04;C25B11/06 |
| 代理公司： | 11352 北京大成律师事务所 | 代理人： | 陈福<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 102209 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多孔NiS2纳米片制备方法及一种NiS2材料，该NiS2材料具有疏松多孔的纳米片结构。该制备方法采用含镍化合物前驱体的方法制备，进一步通过硫化处理，由最初比较平整的纳米片变为多孔疏松的纳米片状结构。该材料可以用于电催化析氧反应催化剂。本发明的优点是该制备方法操作简单，产物纯度高，结晶好，NiS2为多孔疏松的纳米片状结构，有利于催化反应过程中反应物与催化剂的接触，有利于反应过程中反应物和产物的传输，同时疏松多孔的纳米片结构提供了更多的催化活性位点，从而有效地提高了催化活性。该材料在析氧反应中具有较好的催化活性和催化稳定性，可作为新型催化剂用于电解水析氧反应。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米片 制备 析氧反应 纳米片状结构 催化活性 多孔疏松 疏松多孔 反应物 催化剂 催化反应过程 催化活性位点 催化稳定性 含镍化合物 新型催化剂 产物纯度 硫化处理 电催化 电解水 前驱体 有效地 平整 传输 | ||
【主权项】：
1.一种多孔NiS2纳米片制备方法，其特征在于所述的材料结构为纳米片状结构，并且纳米片上具有多孔结构，合成方法采用含镍化合物前驱体的方法制备，包括如下步骤：/n1)含镍化合物的合成：将1～3g三嵌段共聚物P123(分子量＝5800)、加入到含有酸和醇的混合溶液中，完全溶解后，加入0.01～0.10mol镍盐，搅拌使其全部溶解，将混合溶液加热，溶剂挥发自组装2～6h，冷却、清洗后干燥，将所得产物焙烧得到含镍化合物；/n2)硫化处理：取步骤1)中的含镍化合物和硫焙烧，冷却得到NiS2催化剂材料。/n
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