[发明专利]刻划方法在审
申请号: | 201910788336.1 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN110962245A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 曾山浩 | 申请(专利权)人: | 三星钻石工业股份有限公司 |
主分类号: | B28D5/00 | 分类号: | B28D5/00;B28D5/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种能够使用标准轮在基板形成良好的刻划线的刻划方法。一种刻划方法,所述刻划方法通过一边将标准轮(40)按压于基板(15)一边使该标准轮(40)行进从而在基板(15)形成刻划线,使标准轮(40)下降到比基板(15)的端部靠内侧的开始位置(S11),在从开始位置到规定位置位置的第一区间中,以第一载荷将标准轮(40)按压于基板(15)并执行刻划动作(S12),在与第一区间连续的第二区间中,将标准轮(40)对基板(15)的载荷以比第一载荷高的第二载荷(S13)执行刻划动作(S14)。 | ||
搜索关键词: | 刻划 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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