[发明专利]一种阵列基板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910776269.1 申请日: 2019-08-22
公开(公告)号: CN110581141B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 卢改平;杨祖有 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/82
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种阵列基板,其包括基板、设置于基板上的多层膜层以及贯穿至少两层膜层的开孔,开孔所贯穿的膜层在所述开孔处的边缘位于同一平面。形成开孔时,依据各预设膜层上的孔洞的孔偏距尺寸偏差,调整形成各预设膜层上的孔洞的孔间距,从而使得形成的各预设膜层上的孔洞的边界位于同一平面,从而防止位于不同层别的膜层之间形成台阶状的结构,使得配向膜层位于开孔内的部分均匀分布,有效防止配向膜层在开孔内多处堆积导致开孔处透光率降低。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括基板、设置于所述基板上的多层膜层以及贯穿至少两层所述膜层的开孔,所述开孔所贯穿的所述膜层在所述开孔处的边缘位于同一平面。/n
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