[发明专利]一种光学元件损伤测试方法及装置有效
| 申请号： | 201910741078.1 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN110346381B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 戴志平 | 申请（专利权）人： | 衡阳师范学院 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/94 |
| 代理公司： | 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 | 代理人： | 雷正 |
| 地址： | 421008 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学元件损伤测试技术领域，尤其涉及一种新型光学元件损伤测试方法及装置。根据泵浦光获取成像光源一、成像光源二和成像光源三；由所述成像光源一生成元件表面损伤图像；由所述成像光源二生成元件表面图像；由所述成像光源三生成多张元件表面细节图像；根据所述元件表面损伤图像、所述元件表面图像、所述元件表面细节图像生成元件损伤整体图，并对所述元件损伤整体图上的损伤部位进行标记显示。本发明不仅能够清晰的区分出光学元件表面异物或损伤，而且能够得到详细的损伤区分图，降低对光学元件的维护困难程度，减少光学元件的维护成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 损伤 测试 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种新型光学元件损伤测试方法，其特征在于，所述方法包括：S01：根据泵浦光获取成像光源一、成像光源二和成像光源三；S02：由所述成像光源一生成元件表面损伤图像；S03：由所述成像光源二生成元件表面图像；S04：由所述成像光源三生成多张元件表面细节图像；S05：根据所述元件表面损伤图像、所述元件表面图像、所述元件表面细节图像生成元件损伤整体图，并对所述元件损伤整体图上的损伤部位进行标记显示。
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