[发明专利]一种光学元件损伤测试方法及装置有效
| 申请号: | 201910741078.1 | 申请日: | 2019-08-12 | 
| 公开(公告)号: | CN110346381B | 公开(公告)日: | 2022-03-08 | 
| 发明(设计)人: | 戴志平 | 申请(专利权)人: | 衡阳师范学院 | 
| 主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/94 | 
| 代理公司: | 深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙) 44411 | 代理人: | 雷正 | 
| 地址: | 421008 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光学 元件 损伤 测试 方法 装置 | ||
1.一种光学元件损伤测试方法,其特征在于,所述方法包括:
S01:由单一光源泵浦光通过转换模块同时获取成像光源一、成像光源二和成像光源三;
S02:由第一生成模块根据所述成像光源一生成元件表面损伤图像;
S03:由接收CCD一根据所述成像光源二生成元件表面图像;
S04:由接收CCD二根据所述成像光源三生成多张元件表面细节图像;
S05:由图像生成模块根据所述元件表面损伤图像、所述元件表面图像、所述元件表面细节图像生成元件损伤整体图,并对所述元件损伤整体图上的损伤部位进行标记显示;
其中,所述成像光源一包括两束泵浦光,且两束泵浦光分别从待测光学元件的两端同时射入,系统根据所述两束泵浦光的反射情况生成所述元件表面损伤图像;
其中,所述成像光源二为所述泵浦光通过分光装置得到的,所述成像光源二经过反射成像后,系统根据所述成像光源二的反射成像生成所述元件表面图像;
其中,所述成像光源三为所述泵浦光通过分光装置和聚焦装置后生成的,所述成像光源三经过反射成像后,系统根据所述成像光源三的反射成像生成所述元件表面细节图像。
2.一种光学元件损伤测试装置,其特征在于,所述装置包括:
成像光源生成模块:根据泵浦光获取成像光源一、成像光源二和成像光源三;
第一生成模块:由所述成像光源一生成元件表面损伤图像;
第二生成模块:由所述成像光源二生成元件表面图像;
第三生成模块:由所述成像光源三生成多张元件表面细节图像;
图像生成模块:根据所述元件表面损伤图像、所述元件表面图像、所述元件表面细节图像生成元件损伤整体图,并对所述元件损伤整体图上的损伤部位进行标记显示。
3.根据权利要求2所述的一种光学元件损伤测试装置,其特征在于,所述成像光源生成模块包括多个分光片、聚焦装置、和正透镜,所述成像光源生成模块将泵浦光分割成所述成像光源一、所述成像光源二和所述成像光源三。
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