[发明专利]一种射频吸收器表皮及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910735956.9 申请日: 2014-03-17
公开(公告)号: CN110600888B 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: P·索尔萨 申请(专利权)人: 伟创力有限责任公司
主分类号: H01Q17/00 分类号: H01Q17/00;H05K1/02
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;王晓晓
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在本文描述了用于制造射频吸收器(RFA)的方法。该方法包括:将超材料应用到基板以创建超材料层,其中所述超材料具有第一介电常数,及所述基板具有比所述第一介电常数低的第二介电常数;向所述超材料层添加电阻组件;向所述超材料层添加电容组件;将所述超材料层处理到包括多层的RFA表皮中;以及将所述RFA表皮应用到构件以用于吸收目标频率范围中的电磁辐射。
搜索关键词: 一种 射频 吸收 表皮 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于制造射频吸收器(RFA)表皮的方法,该方法包括:/n将超材料应用到基板以创建超材料层,其中所述超材料具有第一介电常数,及所述基板具有比所述第一介电常数低的第二介电常数;/n向所述超材料层添加电阻组件;/n向所述超材料层添加电容组件;/n将所述超材料层处理到包括多层的RFA表皮中;以及/n将所述RFA表皮应用到构件以用于吸收目标频率范围中的电磁辐射。/n
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