[发明专利]衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质

摘要

本发明提供衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质，使生产率提高。具有：加载端口，其载置多个收容有多个衬底的储存容器；能够收容衬底的多个处理室；搬送部，其将储存于储存容器的多个衬底分别向多个处理室搬送；运算部，其在从多个储存容器中的一个分别向多个处理室以规定顺序搬送多个衬底并对其进行处理、且在处理室内无衬底的状态下进行了处理时，计算与处理室对应的数据表的第一计数数据；存储数据表的存储部；和控制部，其对具有数据表中最大的第一计数数据的处理室的表赋予第一搬送标志数据，在搬送储存于一个储存容器的下一个储存容器内的多个衬底时，以基于第一搬送标志数据以规定顺序搬送多个衬底的方式控制搬送部。

主权项

1.一种衬底处理装置，其特征在于，具有：加载端口，其载置多个收容有多个衬底的储存容器；多个处理室，其能够收容所述衬底；搬送部，其将储存于所述储存容器的多个衬底分别向所述多个处理室搬送；运算部，其在从所述多个储存容器中的一个分别向所述多个处理室以规定顺序搬送所述多个衬底并对其进行处理、且在所述处理室内无所述衬底的状态下进行了处理时，计算与该处理室对应的数据表的第一计数数据；存储部，其存储所述数据表；和控制部，其对具有所述数据表中最大的第一计数数据的处理室的数据表赋予第一搬送标志数据，并在搬送储存于所述一个储存容器的下一个储存容器内的多个衬底时，以基于该第一搬送标志数据以所述规定顺序搬送该多个衬底的方式控制所述搬送部。