[发明专利]一种检测装置和硅片分选设备在审
申请号: | 201910669115.2 | 申请日: | 2019-07-24 |
公开(公告)号: | CN110596114A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 李文;王美;洪瑞;刘顺;李昶;徐飞;李泽通;马红伟 | 申请(专利权)人: | 无锡奥特维科技股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/86 | 分类号: | G01N21/86;G01N21/89;G01N21/94;B07C5/34 |
代理公司: | 32369 无锡永乐唯勤专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 孙际德 |
地址: | 214000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种检测装置,包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构,第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面,第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面,第一边缘和第二边缘为待测物体上相对的且与输送机构的输送方向垂直的两条边缘,每组检测机构均包括检测相机、表面照射光源、边缘照射光源和反射机构,其中,对于每组检测机构:反射机构对表面照射光源、边缘照射光源发出的光线进行至少一次反射,以使得待测物体的被测表面反射及被测边缘反射的光均能对应的检测相机探测到。输送过程中,本发明无须对待测物体进行旋转即能实现对待测物体的垂直于输送机构的输送方向的两条边缘以及待测物体的上下表面的检测,从而提升了检测效率、降低了检测成本。 | ||
搜索关键词: | 待测物体 检测 光源 输送机构 边缘照射 表面照射 反射机构 相机 边缘反射 表面反射 方向垂直 上下表面 输送过程 一次反射 上表面 下表面 种检测 两组 配置 探测 垂直 | ||
【主权项】:
1.一种检测装置,其特征在于,所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构,第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面,第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面,所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘,每组检测机构均包括检测相机、表面照射光源、边缘照射光源和反射机构,其中,对于每组所述检测机构:/n所述反射机构被配置为对所述表面照射光源发出的表面照射光线进行至少一次反射,以使得表面照射光线经所述待测物体的被测表面反射后被对应的检测相机探测到;/n所述反射机构还被配置为对所述边缘照射光源发出的边缘照射光线进行至少一次反射,以使得边缘照射光线经所述待测物体的被测边缘反射后被对应的检测相机探测到。/n
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