[发明专利]一种检测装置和硅片分选设备

权利要求书

1.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构，第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面，所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘，每组检测机构均包括检测相机、表面照射光源、边缘照射光源和反射机构，其中，对于每组所述检测机构：

所述反射机构被配置为对所述表面照射光源发出的表面照射光线进行至少一次反射，以使得表面照射光线经所述待测物体的被测表面反射后被对应的检测相机探测到；

所述反射机构还被配置为对所述边缘照射光源发出的边缘照射光线进行至少一次反射，以使得边缘照射光线经所述待测物体的被测边缘反射后被对应的检测相机探测到。

2.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于：对于每组检测机构，所述表面照射光线从所述待测物体的被检测表面反射至对应的检测相机的光程长度与所述边缘照射光线从所述待测物体的被测边缘反射至对应的检测相机的光程长度相等。

3.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于：

所述第一组检测机构的检测相机位于所述输送机构的上方，所述第一组检测机构的表面照射光源位于所述第一组检测机构的检测相机与所述输送机构之间，所述第一组检测机构的边缘照射光源位于所述输送机构的上方或下方；

所述第二组检测机构的检测相机位于所述输送机构的下方，所述第二组检测机构的表面照射光源位于所述第二组检测机构的检测相机与所述输送机构之间，所述第二组检测机构的边缘照射光源位于所述输送机构的上方或下方。

4.如权利要求3所述的检测装置，其特征在于：

所述第一组检测机构的边缘照射光源、表面照射光源及所述第二组检测机构的表面照射光源、边缘照射光源按着所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送；

所述待测物体输送至第二检测位时，所述第二组检测机构检测待测物体的后端边缘，所述待测物体输送至所述第二组检测机构的表面照射光源的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的表面照射光源的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面，所述待测物体输送至第一检测位时，所述第一组检测机构检测待测物体的前端边缘。

5.如权利要求3所述的检测装置，其特征在于：

所述第一组检测机构的表面照射光源、边缘照射光源及所述第二组检测机构的边缘照射光源、表面照射光源按着所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的前端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送；

所述待测物体输送至所述第二组检测机构的表面照射光源的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面，所述待测物体输送至第四检测位时，所述第二组检测机构检测待测物体的前端边缘，所述待测物体输送至第三检测位时，所述第一组检测机构检测待测物体的后端边缘，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的表面照射光源的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；

所述第一组检测机构的边缘照射光源和所述第二组检测机构的边缘照射光源为同一光源或不同光源。

6.如权利要求3所述的检测装置，其特征在于：

所述第二组检测机构的边缘照射光源、表面照射光源及所述第一组检测机构的表面照射光源、边缘照射光源按着所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的前端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送；

所述待测物体输送至第一检测位时，所述第一组检测机构检测待测物体的后端边缘，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的表面照射光源的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面，所述待测物体输送至所述第二组检测机构的表面照射光源的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面，所述待测物体输送至第二检测位时，所述第二组检测机构检测待测物体的前端边缘。