[发明专利]液晶用基板的制造方法在审
申请号: | 201910650332.7 | 申请日: | 2019-07-18 |
公开(公告)号: | CN110737118A | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 冈本章男;谷池康司郎 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1337 |
代理公司: | 11323 北京市隆安律师事务所 | 代理人: | 权鲜枝;刘宁军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种液晶用基板的制造方法,在进行了摩擦处理之后的液晶用基板的清洗工序中,抑制基板的清洗不均。液晶用基板的制造方法包含在对基板(20)进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板(20)进行清洗处理的清洗工序,在上述清洗工序中,对在搬运方向上被搬运并被覆有预处理材料(21)的上述基板(20)供应水系清洗材料(24)的第1清洗材料供应装置(22)在上述搬运方向上的位置根据被覆于上述基板的上述预处理材料(21)的被膜量以及上述基板(20)的搬运速度来调整。 | ||
搜索关键词: | 基板 液晶用基板 搬运 清洗工序 预处理材料 摩擦处理 液晶分子取向 供应装置 清洗材料 清洗处理 水系清洗 对基板 抑制基 被膜 制造 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种液晶用基板的制造方法,包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板进行清洗的清洗工序,/n上述液晶用基板的制造方法的特征在于,/n在上述清洗工序中,对在搬运方向上被搬运并被覆有预处理材料的上述基板供应水系清洗材料的第1清洗材料供应装置在上述搬运方向上的位置根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。/n
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