[发明专利]液晶用基板的制造方法在审
| 申请号： | 201910650332.7 | 申请日： | 2019-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN110737118A | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 冈本章男;谷池康司郎 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 11323 北京市隆安律师事务所 | 代理人： | 权鲜枝;刘宁军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 液晶用基板 搬运 清洗工序 预处理材料 摩擦处理 液晶分子取向 供应装置 清洗材料 清洗处理 水系清洗 对基板 抑制基 被膜 制造 清洗 | ||
1.一种液晶用基板的制造方法，包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板进行清洗的清洗工序，
上述液晶用基板的制造方法的特征在于，
在上述清洗工序中，对在搬运方向上被搬运并被覆有预处理材料的上述基板供应水系清洗材料的第1清洗材料供应装置在上述搬运方向上的位置根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。
2.根据权利要求1所述的液晶用基板的制造方法，
设置有气刀，上述气刀配置在比上述第1清洗材料供应装置靠上述搬运方向的上游侧，具有对被覆有上述预处理材料的上述基板喷射气体的狭缝部，
上述搬运方向上的从上述气刀到上述第1清洗材料供应装置的距离根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。
3.根据权利要求1所述的液晶用基板的制造方法，
上述第1清洗材料供应装置是瀑布式淋洗器，上述瀑布式淋洗器将上述水系清洗材料垂直地供应给上述基板，并在与上述搬运方向正交的方向上延伸，
上述瀑布式淋洗器在上述搬运方向上的位置根据上述基板中的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。
4.根据权利要求2所述的液晶用基板的制造方法，
上述第1清洗材料供应装置是瀑布式淋洗器，上述瀑布式淋洗器具备将上述水系清洗材料垂直地供应给上述基板的供应部，并在与上述搬运方向正交的方向上延伸，
上述搬运方向上的从上述气刀的上述狭缝部到上述瀑布式淋洗器的上述供应部的距离根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。
5.根据权利要求1至权利要求4中的任意一项所述的液晶用基板的制造方法，
上述基板的搬运速度为1.5m/分至3.5m/分。
6.根据权利要求1至权利要求4中的任意一项所述的液晶用基板的制造方法，
上述基板中的上述预处理材料的被膜量为175mL/m2至325mL/m2。
7.根据权利要求1至权利要求4中的任意一项所述的液晶用基板的制造方法，
通过配置在比上述第1清洗材料供应装置靠上述搬运方向的下游侧的第2清洗材料供应装置将上述水系清洗材料再次供应给上述基板。
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