[发明专利]液晶用基板的制造方法

说明书

一种液晶用基板的制造方法，在进行了摩擦处理之后的液晶用基板的清洗工序中，抑制基板的清洗不均。液晶用基板的制造方法包含在对基板(20)进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板(20)进行清洗处理的清洗工序，在上述清洗工序中，对在搬运方向上被搬运并被覆有预处理材料(21)的上述基板(20)供应水系清洗材料(24)的第1清洗材料供应装置(22)在上述搬运方向上的位置根据被覆于上述基板的上述预处理材料(21)的被膜量以及上述基板(20)的搬运速度来调整。

技术领域

本发明涉及包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对基板进行清洗处理的清洗工序的液晶用基板的制造方法。

背景技术

以往，在作为液晶显示装置的主要构成部件的液晶面板的制造中，对液晶用玻璃基板的表面涂敷聚酰亚胺等高分子膜(取向膜)，利用摩擦处理法或偏振紫外线照射处理法等，进行用于使取向膜具有固定方向的各向异性的取向处理。其中，在摩擦处理法中，由于通过旋转的摩擦辊在固定方向上摩擦取向膜的表面，从而会产生微小的粉尘或削屑等，因此，在摩擦处理后，为了除去附着在基板的表面的异物而用纯水清洗基板表面。

作为进行摩擦处理后的清洗的液晶用基板的清洗工序的现有例子，已知下述专利文献1所记载的例子。该专利文献1所记载的液晶用基板的清洗工序通过使用具有亲水性的异丙醇(IPA)对基板表面进行被膜处理作为清洗前的预处理，从而，能够抑制之后的纯水清洗中的基板表面的清洗不均。具体来说，首先在基板表面形成IPA(预处理材料)的被膜，然后使IPA与纯水置换，用纯水均匀覆盖基板表面，从而，能够抑制之后的纯水清洗中的清洗不均。可以认为，清洗不均得以抑制是因为，通过使纯水与IPA置换，从而能够防止水分在取向膜表面不均匀分布而发生部分水解。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开平9-33927号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，IPA具有低沸点和高挥发性。另一方面，由于液晶用基板近年来越来越大型化，因此，形成IPA被膜后的液晶用基板到达接下来的置换槽所需的时间比以往要多，会有先形成的搬运方向的前头侧的IPA被膜开始局部消失的问题。这种被膜不均进而会导致清洗不均，其结果是，导致基板的异物不良产生率增大。

本发明是基于如上所述的情况而完成的，目的在于，在进行了摩擦处理之后的液晶用基板的清洗工序中抑制基板的清洗不均。

用于解决问题的方案

(1)本发明的一个实施方式是液晶用基板的制造方法，包含在对基板进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板进行清洗的清洗工序，在上述液晶用基板的制造方法中，在上述清洗工序中，对在搬运方向上被搬运并被覆有预处理材料的上述基板供应水系清洗材料的第1清洗材料供应装置在搬运方向上的位置根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。

到被覆于基板的IPA(预处理材料的一个例子)挥发而局部消失并产生被膜不均为止的时间取决于被覆于基板的表面的IPA被膜量以及搬运速度。因此，通过根据这些来调整第1清洗材料供应装置的位置，从而能够在被膜不均产生之前供应水系清洗材料。这样一来，能够抑制IPA的被膜不均，用水系清洗材料均匀覆盖基板表面，因此，能够抑制清洗不均。

(2)另外，本发明的一个实施方式是液晶用基板的制造方法，在上述(1)的基础上，设置有气刀，上述气刀配置在比上述第1清洗材料供应装置靠上述搬运方向的上游侧，具有对被覆有上述预处理材料的上述基板喷射气体的狭缝部，搬运方向上的从上述气刀到上述第1清洗材料供应装置的距离根据被覆于上述基板的上述预处理材料的被膜量以及上述基板的搬运速度来调整。