[发明专利]半导体结构在审

专利信息
申请号: 201910643781.9 申请日: 2019-07-17
公开(公告)号: CN112242436A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 陈立哲;宋建宪;林志威;谭鸿志 申请(专利权)人: 世界先进积体电路股份有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王天尧;任默闻
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体结构,包括:一基板;一栅极,设置于该基板上;一源极,设置于该基板中,位于该栅极的一侧;一漏极,设置于该基板中,位于该栅极的另一侧;以及一栅极延伸部,设置于该基板上,位于该栅极与该漏极之间,其中该栅极的掺杂型式与该栅极延伸部的掺杂型式相反。通过本发明特殊的半导体结构设计可有效减少开关器件的功率损失,大幅提高开关频率及达到高效能的电功率转换。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
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