[发明专利]用于超高密度芯片FOSiP封装的结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910614561.3 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN110323197A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 王新;蒋振雷;陈坚 申请(专利权)人: 王新;蒋振雷;陈坚
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L25/16;H01L21/60;H01L23/488
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 张超
地址: 310000 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于超高密度芯片FOSiP封装的结构,从上至下依次设置塑封层、精密铜互联层和重新布线层,塑封层内塑封有若干带有金属触点的芯片或器件,精密铜互联层具有由双凹槽构成的互联结构,沿塑封层表面垂直方向靠近塑封层的截面大小小于远离塑封层的截面大小,重新布线层在其介电层所在一层形成能够和精密铜互联层电学互联的金属连接结构,金属连接结构穿过介电层并延伸出有机物介电层部分作为触点,触点上设置锡球。本发明还公开了此种扇出封装结构的制备方法。采用本发明的设计方案,可以把具有超精细引脚结构的高端精密裸芯片方便地进行扇出型集成封装,也进一步缩小了封装体积。
搜索关键词: 塑封层 精密 铜互联层 介电层 封装 金属连接结构 重新布线层 芯片 触点 制备 表面垂直方向 从上至下 封装结构 互联结构 集成封装 金属触点 依次设置 引脚结构 有机物 电学 超精细 裸芯片 扇出型 双凹槽 高端 扇出 塑封 锡球 穿过 互联 延伸
【主权项】:
1.一种用于超高密度芯片FOSiP封装的结构,其特征在于:从上至下依次设置塑封层、精密铜互联层和至少一层重新布线层,精密铜互联层具有由双凹槽叠加构成的金属互联结构,沿塑封层表面垂直方向靠近塑封层的截面大小小于远离塑封层的截面大小,重新布线层在其介电层所在一层形成能够和精密铜互联层电学互联的金属连接结构,金属连接结构穿过介电层并延伸出有机物介电层部分作为触点,触点上设置锡球。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王新;蒋振雷;陈坚,未经王新;蒋振雷;陈坚许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910614561.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top