[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置有效
| 申请号： | 201910614460.6 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110161600B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 陈雷;王雪绒;汪志强;孙川;马鑫;王秋里;姚建峰;杨超;芮博超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置。用以减小液晶显示装置的视角，提高在正视方向上的亮度。本发明实施例提供一种阵列基板，包括第一衬底以及设置在第一衬底上且与多个所述亚像素单元一一正对的多个发光单元；每个所述发光单元包括表面等离激元产生单元，以及设置在所述表面等离激元产生单元和自由空间界面处的荧光发射部。每个所述发光单元中，所述表面等离激元产生单元用于在光的激发作用下产生表面等离激元，所述荧光发射部用于在所述表面等离激元产生单元所产生的表面等离激元的激发下发光，并将所发出的光竖直投射到与之正对的亚像素单元上。本发明实施例用于减小液晶显示装置的视角。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括第一衬底以及设置在所述第一衬底上的多个亚像素单元；所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上，且与多个所述亚像素单元一一正对的多个发光单元；每个所述发光单元包括表面等离激元产生单元，以及设置在所述表面等离激元产生单元和自由空间界面处的荧光发射部；每个所述发光单元中，所述表面等离激元产生单元用于在光的激发作用下产生表面等离激元，所述荧光发射部用于在所述表面等离激元产生单元所产生的表面等离激元的激发下发光，并将所发出的光竖直投射到与之正对的亚像素单元上。
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