[发明专利]一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置有效
申请号: | 201910614460.6 | 申请日: | 2019-07-09 |
公开(公告)号: | CN110161600B | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 陈雷;王雪绒;汪志强;孙川;马鑫;王秋里;姚建峰;杨超;芮博超 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02F1/13357 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 液晶 显示装置 | ||
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置。用以减小液晶显示装置的视角,提高在正视方向上的亮度。本发明实施例提供一种阵列基板,包括第一衬底以及设置在第一衬底上且与多个所述亚像素单元一一正对的多个发光单元;每个所述发光单元包括表面等离激元产生单元,以及设置在所述表面等离激元产生单元和自由空间界面处的荧光发射部。每个所述发光单元中,所述表面等离激元产生单元用于在光的激发作用下产生表面等离激元,所述荧光发射部用于在所述表面等离激元产生单元所产生的表面等离激元的激发下发光,并将所发出的光竖直投射到与之正对的亚像素单元上。本发明实施例用于减小液晶显示装置的视角。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置。
背景技术
随着虚拟现实技术的快速发展,对显示模组的需求也日益严格,在虚拟现实的应用中,尤其是头戴式虚拟现实显示装置,由于其与人眼的相对位置保持固定,且整个光学系统中包含有透镜光束整形使得整体透过率偏低,因此,传统的小尺寸显示装置的大视角光学设计已不能满足虚拟现实显示装置的需求,虚拟现实显示装置正日益趋向于正向高亮度以及超窄视角的方向发展。
发明内容
本发明的主要目的在于,提供一种阵列基板及其制备方法和液晶显示装置。用以减小液晶显示装置的视角,提高在正视方向上的亮度。
为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:
一方面,本发明实施例提供一种阵列基板,包括第一衬底以及设置在所述第一衬底上的多个亚像素单元;所述阵列基板还包括设置于所述第一衬底上,且与多个所述亚像素单元一一正对的多个发光单元;每个所述发光单元包括表面等离激元产生单元,以及设置在所述表面等离激元产生单元和自由空间界面处的荧光发射部;每个所述发光单元中,所述表面等离激元产生单元用于在光的激发作用下产生表面等离激元,所述荧光发射部用于在所述表面等离激元产生单元所产生的表面等离激元的激发下发光,并将所发出的光竖直投射到与之正对的亚像素单元上。
可选的,所述表面等离激元产生单元包括设置于所述第一衬底和所述亚像素单元之间的金属层,以及设置在所述金属层远离所述第一衬底一侧的金属光栅结构,所述金属层至少可透过波长范围在420-450nm的紫外光;所述荧光发射部包括设置于所述金属光栅结构的间隙中的荧光材料。
可选的,所述金属光栅结构包括多条平行的矩形线栅。
可选的,相邻的两条矩形线栅之间的间距为300-400nm,每条所述矩形线栅的线宽为150-180nm,每条所述矩形线栅的高度为10-30微米。
可选的,所述发光单元还包括设置于所述金属光栅结构远离所述金属层一侧的透明介质层,所述透明介质层用于与所述金属层的折射率相匹配,对所述表面等离激元的振荡频率进行调节。
可选的,所述透明介质层的折射率为1.55-1.65。
可选的,多个所述发光单元包括第一颜色发光单元、第二颜色发光单元和第三颜色发光单元;第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色。
另一方面,本发明实施例提供一种液晶显示装置,包括液晶显示面板以及设置在所述液晶显示面板远离出光面一侧的背光模组;所述液晶显示面板包括对置基板、如上所述的阵列基板,以及设置在所述阵列基板和对置基板之间的液晶层;所述液晶显示装置还包括设置在所述对置基板上的上偏光片。
可选的,所述背光模组所发出的光为波长范围为420-450nm的紫外光。
再一方面,本发明实施例提供一种如上所述的阵列基板的制备方法,包括:在第一衬底上每个亚像素的区域,形成发光单元;在形成有所述发光单元的所述第一衬底上,且在每个所述亚像素的区域,形成亚像素单元;其中,每个所述发光单元包括表面等离激元产生单元,以及形成在所述表面等离激元产生单元和自由空间界面处的荧光发射部。
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