[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201910609149.2 | 申请日: | 2019-07-08 |
公开(公告)号: | CN110828570B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 梁正吉;金相秀;金善昱;裵金钟;宋昇珉;郑秀真 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/423 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体器件包括:鳍型有源区,沿第一方向延伸、从衬底突出;多个纳米片堆叠结构;阻挡膜,覆盖所述多个纳米片堆叠结构之中与鳍型有源区的两侧相邻的一对纳米片堆叠结构的每个的上表面的一部分和一个侧壁;栅电极,在鳍型有源区上沿与第一方向交叉的第二方向延伸,栅电极包括围绕所述多个纳米片的实际栅电极和设置在阻挡膜上的虚设栅电极;以及栅极电介质层,在实际栅电极与所述多个纳米片之间以及虚设栅电极与阻挡膜之间。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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