[发明专利]掩膜结构和FCVA设备有效
| 申请号： | 201910605875.7 | 申请日： | 2019-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN110158029B | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 史全宇 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜结构和FCVA设备，该掩膜结构用于在静电卡盘的承载面上制造凸点，且包括均采用导电金属制作的主掩膜板和侧掩膜板，其中，主掩膜板用于在静电卡盘的承载面上形成对应凸点的图形化膜层；侧掩膜板用于完全遮挡静电卡盘的侧面，以避免在该侧面上形成膜层。本发明提供的掩膜结构，其可以导电，且可以避免静电卡盘的侧面被镀膜，从而可以应用于FCVA设备。 | ||
| 搜索关键词： | 膜结构 fcva 设备 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜结构，用于在静电卡盘的承载面上制造凸点，其特征在于，所述掩膜结构包括均采用导电金属制作的主掩膜板和侧掩膜板，其中，所述主掩膜板用于在所述静电卡盘的承载面上形成对应所述凸点的图形化膜层；所述侧掩膜板用于完全遮挡所述静电卡盘的侧面，以避免在所述侧面上形成膜层。
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