[发明专利]阵列基板、显示装置及其显示方法有效
申请号: | 201910605630.4 | 申请日: | 2019-07-05 |
公开(公告)号: | CN110262118B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 陈伟雄;张乐;刘汉青;李鑫;宋勇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1362;H01L27/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种阵列基板、显示装置及其显示方法。该阵列基板包括:衬底基板、多个像素单元、反射层以及介电弹性体。多个像素单元位于衬底基板上,多个像素单元的至少之一包括反射层;介电弹性体位于反射层靠近衬底基板的一侧,且被配置为在电压的作用下改变靠近反射层一侧表面的不平坦度,从而改变反射层的不平坦度。该阵列基板可根据环境光照强度而调节自身的反射率,从而优化显示效果。 | ||
搜索关键词: | 阵列 显示装置 及其 显示 方法 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括:衬底基板;多个像素单元,位于所述衬底基板上,所述多个像素单元的至少之一包括反射层;以及介电弹性体,位于所述反射层靠近所述衬底基板的一侧,且被配置为在电压的作用下改变靠近所述反射层一侧表面的不平坦度,从而改变所述反射层的不平坦度。
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