[发明专利]阵列基板、显示装置及其显示方法

说明书

一种阵列基板、显示装置及其显示方法。该阵列基板包括：衬底基板、多个像素单元、反射层以及介电弹性体。多个像素单元位于衬底基板上，多个像素单元的至少之一包括反射层；介电弹性体位于反射层靠近衬底基板的一侧，且被配置为在电压的作用下改变靠近反射层一侧表面的不平坦度，从而改变反射层的不平坦度。该阵列基板可根据环境光照强度而调节自身的反射率，从而优化显示效果。

技术领域

本公开的实施例涉及一种阵列基板、显示装置及其显示方法。

背景技术

液晶显示器一般由上基板和下基板对盒形成，两个基板之间的空间中封装有液晶。由于液晶分子本身不发光，所以显示器需要光源以便显示图像。根据采用的光源类型，液晶显示器可分为透射式、反射式和半透半反式。透射式液晶显示器使用背光作为光源，由背光发出的光线经过透明电极及液晶层而显示图像，其可以在暗环境下显示图像。反射式液晶显示器使用外界环境光作为光源，外界环境光射入显示屏后经过反射而显示图像，因此其在暗环境下不能显示图像。半透半反式液晶显示器兼具透射式和反射式液晶显示器的特点，在面板内同时设置透射区和反射区，既可以在亮环境使用，也可以在暗环境使用。

发明内容

本公开的实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及其显示方法。该阵列基板可根据环境光照强度而调节自身的反射率，从而优化显示效果。

本公开至少一个实施例提供一种阵列基板，包括：衬底基板；多个像素单元，位于所述衬底基板上，所述多个像素单元的至少之一包括反射层；以及介电弹性体，位于所述反射层靠近所述衬底基板的一侧，且被配置为在电压的作用下改变靠近所述反射层一侧表面的不平坦度，从而改变所述反射层的不平坦度。

在一些示例中，所述反射层共形地形成在所述介电弹性体上。

在一些示例中，所述多个像素单元的至少之一还包括位于所述反射层之外的透射区。

在一些示例中，所述阵列基板还包括控制线，与所述介电弹性体电连接，被配置为向所述介电弹性体施加电压。

在一些示例中，所述介电弹性体包括多个按矩阵排列的介电弹性体块，每个介电弹性体块位于至少一个像素单元所在的区域内，所述控制线包括多条控制线，每个所述介电弹性体块连接至少一条所述控制线。

在一些示例中，所述介电弹性体在对应于所述透射区的区域开设有透光区。

在一些示例中，所述介电弹性体包括层叠设置的导电层和介电弹性材料层，所述导电层与所述控制线电连接，被配置为向所述介电弹性材料层施加电压，所述介电弹性材料层被配置为根据所述导电层施加的电压而改变远离所述衬底基板的一侧的不平坦度。

在一些示例中，所述导电层包括第一导电层和第二导电层，分别位于所述介电弹性材料层在垂直于所述衬底基板的方向上的两侧，所述第一导电层与所述第二导电层之一与所述控制线电连接，另一个被配置为施加公共电压。

在一些示例中，所述改变靠近反射层一侧表面的不平坦度包括形成凸起或改变所述凸起的高度。

在一些示例中，所述反射层为彩色反射层。

在一些示例中，所述介电弹性体与所述反射层彼此绝缘。

本公开至少一个实施例提供一种显示装置，包括上述阵列基板。

在一些示例中，所述显示装置还包括控制器以及感光元件，所述控制器分别与所述感光元件和所述介电弹性体电连接，所述感光元件配置为检测环境光照强度并向所述控制器提供光照强度信号，所述控制器根据所述光照强度信号向所述介电弹性体施加相应的电压。

本公开至少一个实施例提供一种显示装置的显示方法，包括：检测环境光照强度；根据所述光照强度，向所述介电弹性体施加相应的电压，改变所述介电弹性体靠近所述反射层一侧的不平坦度，从而改变所述反射层的反射率。